کاربرد هدف کندوپاش تراشه نیمه هادی

Rich Special Material Co., Ltd. می تواند اهداف کندوپاش آلومینیومی با خلوص بالا، اهداف کندوپاش مس، اهداف کندوپاش تانتالیوم، اهداف کندوپاش تیتانیوم و غیره را برای صنعت نیمه هادی تولید کند.

تراشه های نیمه هادی دارای الزامات فنی بالا و قیمت های بالایی برای اهداف کندوپاش هستند.الزامات آنها برای خلوص و فناوری اهداف کندوپاش بیشتر از صفحه های صفحه تخت، سلول های خورشیدی و سایر کاربردها است.تراشه های نیمه هادی استانداردهای بسیار سختگیرانه ای را در مورد خلوص و ریزساختار داخلی اهداف کندوپاش تعیین می کنند.اگر محتوای ناخالصی هدف کندوپاش خیلی زیاد باشد، فیلم تشکیل شده نمی تواند خواص الکتریکی مورد نیاز را برآورده کند.در فرآیند کندوپاش، به راحتی می توان ذرات را روی ویفر تشکیل داد که منجر به اتصال کوتاه یا آسیب به مدار می شود که به طور جدی بر عملکرد فیلم تأثیر می گذارد.به طور کلی، بالاترین هدف کندوپاش خلوص برای تولید تراشه مورد نیاز است که معمولاً 99.9995٪ (5N5) یا بالاتر است.

اهداف کندوپاش برای ساخت لایه های مانع و بسته بندی لایه های سیم کشی فلزی استفاده می شود.در فرآیند تولید ویفر، هدف عمدتاً برای ساخت لایه رسانا، لایه مانع و شبکه فلزی ویفر استفاده می شود.در فرآیند بسته بندی تراشه، هدف کندوپاش برای تولید لایه های فلزی، لایه های سیم کشی و سایر مواد فلزی زیر برجستگی ها استفاده می شود.اگرچه میزان مواد هدف مورد استفاده در تولید ویفر و بسته بندی تراشه اندک است، اما طبق آمار SEMI، هزینه مواد مورد نظر در فرآیند تولید و بسته بندی ویفر حدود 3 درصد است.با این حال، کیفیت هدف کندوپاش مستقیماً بر یکنواختی و عملکرد لایه رسانا و لایه مانع تأثیر می گذارد و در نتیجه بر سرعت انتقال و پایداری تراشه تأثیر می گذارد.بنابراین، هدف کندوپاش یکی از مواد خام اصلی برای تولید نیمه هادی است