توابع اهداف کندوپاش در پوشش خلاء

هدف تأثیرات زیادی دارد و فضای توسعه بازار بزرگ است.در بسیاری از زمینه ها بسیار مفید است.تقریباً تمام تجهیزات کندوپاش جدید از آهنرباهای قوی برای مارپیچی الکترون ها برای تسریع یونیزاسیون آرگون در اطراف هدف استفاده می کنند و در نتیجه احتمال برخورد بین هدف و یون های آرگون افزایش می یابد.حالا بیایید نگاهی به نقش هدف کندوپاش در پوشش خلاء بیندازیم.

سرعت کندوپاش را بهبود بخشید.به طور کلی، کندوپاش DC برای پوشش فلز استفاده می شود، در حالی که کندوپاش RF AC برای مواد مغناطیسی سرامیکی غیر رسانا استفاده می شود.اصل اساسی استفاده از تخلیه تابشی برای برخورد یون‌های آرگون (AR) بر روی سطح هدف در خلاء است و کاتیون‌های پلاسما به‌عنوان ماده پاشیده شده به سطح الکترود منفی سرعت می‌گیرند.این ضربه باعث می شود که مواد هدف به بیرون پرواز کند و روی بستر رسوب کند تا یک لایه تشکیل شود.

به طور کلی، چندین ویژگی پوشش فیلم با فرآیند کندوپاش وجود دارد: (1) فلز، آلیاژ یا عایق را می توان به داده های فیلم تبدیل کرد.

(2) تحت شرایط تنظیم مناسب، فیلم با ترکیب یکسان را می توان از اهداف متعدد و نامنظم ساخت.

(3) مخلوط یا ترکیب مواد هدف و مولکول های گاز را می توان با افزودن اکسیژن یا سایر گازهای فعال در اتمسفر تخلیه تولید کرد.

(4) جریان ورودی هدف و زمان کندوپاش را می توان کنترل کرد و بدست آوردن ضخامت فیلم با دقت بالا آسان است.

(5) در مقایسه با سایر فرآیندها، برای تولید فیلم های یکنواخت با مساحت بزرگ مناسب است.

(6) ذرات پراکنده شده تقریباً تحت تأثیر گرانش قرار نمی گیرند و موقعیت هدف و بستر را می توان آزادانه مرتب کرد.