دلایل ایجاد شیارهای روی سطح هدف نیوبیم

مواد هدف نیوبیم عمدتاً در پوشش نوری، پوشش مواد مهندسی سطح و صنایع پوشش مانند مقاومت در برابر حرارت، مقاومت در برابر خوردگی و رسانایی بالا استفاده می شود.در زمینه پوشش نوری، عمدتاً در محصولات نوری چشمی، لنزها، اپتیک های دقیق، پوشش های بزرگ، پوشش های سه بعدی و سایر جنبه ها استفاده می شود.

ماده هدف نیوبیم معمولاً هدف لخت نامیده می شود.ابتدا به هدف پشت مسی جوش داده می‌شود، و سپس پراکنده می‌شود تا اتم‌های نیوبیم را به شکل اکسید بر روی مواد زیرلایه رسوب کند و به پوشش کندوپاشی دست یابد.با تعمیق و گسترش مداوم فناوری و کاربرد هدف نیوبیم، الزامات یکنواختی ریزساختار هدف نیوبیوم افزایش یافته است که عمدتاً در سه جنبه آشکار می شود: پالایش اندازه دانه، عدم جهت گیری بافت واضح و خلوص شیمیایی بهبود یافته.

توزیع یکنواخت ریزساختار و خواص در سراسر هدف برای اطمینان از عملکرد کندوپاش مواد هدف نیوبیم بسیار مهم است.سطح اهداف نیوبیمی که در تولید صنعتی با آن مواجه می شوند معمولاً الگوهای منظمی را نشان می دهد که به شدت بر عملکرد کندوپاشی اهداف تأثیر می گذارد.چگونه می توانیم نرخ بهره برداری از اهداف را بهبود بخشیم؟

با تحقیقات مشخص شده است که محتوای ناخالصی (خلوص هدف) یک عامل مهم مؤثر بر خلوص است.ترکیب شیمیایی مواد خام ناهموار است و ناخالصی ها غنی می شوند.پس از پردازش نورد بعدی، الگوهای منظم بر روی سطح مواد هدف نیوبیم تشکیل می شود.حذف توزیع ناهموار اجزای مواد خام و غنی سازی ناخالصی می تواند از تشکیل الگوهای منظم بر روی سطح اهداف نیوبیم جلوگیری کند.تأثیر اندازه دانه و ترکیب ساختاری روی ماده مورد نظر می تواند تقریباً ناچیز باشد.