ویژگی ها و اصول فنی مواد هدف پوشش چیست؟

لایه نازک روی هدف پوشش داده شده یک شکل ماده خاص است.در جهت خاص ضخامت، مقیاس بسیار کوچک است که یک کمیت قابل اندازه گیری میکروسکوپی است.علاوه بر این، به دلیل ظاهر و رابط ضخامت فیلم، تداوم مواد خاتمه می یابد، که باعث می شود داده های فیلم و داده های هدف دارای ویژگی های مشترک متفاوتی باشند. و هدف عمدتا استفاده از پوشش کندوپاش مگنترون است، ویرایشگر Beijing Richmat ما را به درک خواهد برد. اصل و مهارت های پوشش کندوپاش.

　　一، اصل پوشش کندوپاش

مهارت پوشش کندوپاش استفاده از ظاهر هدف پوسته یونی است، اتم های هدف از پدیده معروف به کندوپاش زدن ضربه می خورند.اتم‌های رسوب‌شده روی سطح بستر را پوشش کندوپاشی می‌گویند. به طور کلی، یونیزاسیون گاز با تخلیه گاز تولید می‌شود و یون‌های مثبت هدف کاتد را با سرعت بالا تحت تأثیر میدان الکتریکی بمباران می‌کنند و اتم‌ها یا مولکول‌های آن را از بین می‌برند. هدف کاتد، و پرواز به سطح زیرلایه برای رسوب در یک فیلم. به زبان ساده، پوشش کندوپاش از تخلیه درخشش گاز بی اثر فشار کم برای تولید یون استفاده می کند.

به طور کلی، تجهیزات آبکاری فیلم کندوپاش مجهز به دو الکترود در یک محفظه تخلیه خلاء هستند و هدف کاتد از داده های پوشش تشکیل شده است.محفظه خلاء با گاز آرگون با فشار 0.1 ~ 10Pa پر شده است.تخلیه درخشندگی در کاتد تحت تأثیر ولتاژ بالای منفی 1 تا 3 کیلو ولت dc یا ولتاژ rf 13.56 مگاهرتز رخ می دهد. یون های آرگون سطح هدف را بمباران می کنند و باعث می شوند اتم های هدف پراکنده شده روی بستر تجمع کنند.

　　二、ویژگی های مهارت های پوشش دهی

1، سرعت انباشته شدن سریع

تفاوت بین الکترود کندوپاش مگنترون با سرعت بالا و الکترود کندوپاش دو مرحله ای سنتی در این است که آهنربا در زیر هدف قرار می گیرد، بنابراین میدان مغناطیسی ناهموار بسته روی سطح هدف رخ می دهد. نیروی لورنتس روی الکترون ها به سمت مرکز است. از میدان مغناطیسی ناهمگنبه دلیل اثر تمرکز، الکترون ها کمتر فرار می کنند.میدان مغناطیسی ناهمگن در اطراف سطح هدف می‌چرخد و الکترون‌های ثانویه گرفته شده در میدان مغناطیسی ناهمگن به طور مکرر با مولکول‌های گاز برخورد می‌کنند، که نرخ تبدیل بالای مولکول‌های گاز را بهبود می‌بخشد. بنابراین، کندوپاش مگنترون با سرعت بالا انرژی کم مصرف می‌کند، اما می تواند یک راندمان پوشش عالی، با ویژگی های تخلیه ایده آل به دست آورد.

2، دمای بستر پایین است

کندوپاش مگنترون با سرعت بالا که به عنوان کندوپاش در دمای پایین نیز شناخته می شود.دلیل آن این است که دستگاه از تخلیه در فضایی از میدان های الکترومغناطیسی که مستقیماً به یکدیگر هستند استفاده می کند.الکترون های ثانویه ای که در خارج از هدف، در یکدیگر وجود دارند.تحت تأثیر میدان الکترومغناطیسی مستقیم، به سطح هدف محدود می شود و در طول باند در یک خط چرخشی دایره ای حرکت می کند و مکرراً به مولکول های گاز برخورد می کند تا مولکول های گاز را یونیزه کند. با هم، خود الکترون ها به تدریج انرژی خود را از دست می دهند. برآمدگی های مکرر، تا زمانی که انرژی آنها تقریباً به طور کامل از بین برود قبل از اینکه بتوانند از سطح هدف در نزدیکی بستر فرار کنند.از آنجایی که انرژی الکترون ها بسیار کم است، دمای هدف خیلی بالا نمی رود.این برای مقابله با افزایش دمای بستر ناشی از بمباران الکترونی پرانرژی یک شات معمولی دیودی کافی است که برودت را کامل می کند.

3، طیف گسترده ای از ساختارهای غشایی

ساختار لایه‌های نازک به‌دست‌آمده از تبخیر خلاء و رسوب تزریق کاملاً متفاوت از ساختاری است که توسط نازک کردن جامدات حجیم به دست می‌آید.بر خلاف جامدات به طور کلی موجود، که اساساً به عنوان ساختار یکسان در سه بعدی طبقه بندی می شوند، لایه های رسوب شده در فاز گاز به عنوان ساختارهای ناهمگن طبقه بندی می شوند. لایه های نازک ستونی هستند و می توانند با میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شوند.رشد ستونی فیلم به دلیل سطح محدب اولیه زیرلایه و چند سایه در قسمت های برجسته زیرلایه ایجاد می شود.با این حال، شکل و اندازه ستون به دلیل دمای بستر، پراکندگی سطحی اتم‌های روی هم، دفن اتم‌های ناخالصی و زاویه برخورد اتم‌های فرود نسبت به سطح بستر کاملاً متفاوت است.در محدوده دمای بیش از حد، لایه نازک دارای ساختار فیبری، چگالی بالا، متشکل از کریستال های ستونی ریز است که ساختار منحصر به فرد فیلم کندوپاش است.

فشار کندوپاش و سرعت انباشتن فیلم نیز بر ساختار فیلم تأثیر می گذارد.از آنجایی که مولکول های گاز دارای اثر سرکوب پراکندگی اتم ها در سطح بستر هستند، اثر فشار کندوپاش بالا برای افت دمای زیرلایه در مدل مناسب است.بنابراین، فیلم های متخلخل حاوی دانه های ریز را می توان در فشار کندوپاش بالا به دست آورد.این فیلم با اندازه دانه کوچک برای روانکاری، مقاومت در برابر سایش، سخت شدن سطح و سایر کاربردهای مکانیکی مناسب است.

4- ترکیب را به طور مساوی بچینید

ترکیبات، مخلوط ها، آلیاژها و غیره که پوشش دهی آنها با تبخیر خلاء به طور مناسب دشوار است زیرا فشار بخار اجزاء متفاوت است یا به دلیل اینکه در هنگام گرم شدن متمایز می شوند. از این نظر، مهارت های فیلم سازی کامل تر است.انواع مواد را می توان در تولید پوشش های صنعتی به روش کندوپاش استفاده کرد.